Das PUE-EC-1200 Reinigungs- und Ätzsystem kombiniert die neuste Prozesstechnologie mit bewährter und getesteter Technik bei gleichzeitig höchster Flexibilität. Der Modulare Aufbau ermöglicht eine Kundenoptimierte Systemkonfiguration entsprechend der benötigten Prozesse und Bearbeitungsmengen. Die im System integrierte Reinraum Technologie sichert beste Reinigungs- und Ätzprozesse und ermöglicht enorme Kostenersparnis, da Sie nur an der Ausgabestation einen Reinraum benötigen. Mit den standardisierten Reinigungs- Ätz, Spül- und Trocknermodulen und dem PUE Konzept der Modularität haben Sie bereits heute  ein System das den Anforderungen der nächsten Generation gewachsten ist.

System Merkmale:

• Modularer Aufbau ermöglicht einfache Systemerweiterung bei Prozessumstellung oder Produktionserhöhung
• Einfache Systemwartung
• Optimale Prozessbeobachtung durch Innenbeleuchtung von außen
• Kurze Servicezeiten durch einfachen Modul oder Badwechsel
• Produkt Pufferstrecken  in Waren Ein- und Ausgang
• Gewährleisung bester Spültechnologie durch QDR Spülbecken
• Ultraschall Vorreinigung
• Flüssigkeitsbewegung in den Chemiebädern mit Temperaturkontrolle und Chemienachschärfung sorgen für bestmögliche Chemikalien Effizienz
• Heiß Wasser Trockner sowie Heiß Luft Trockner
• 2 Fahrwägen 1 x für Nassprozess und 1 x für Trocken Prozesse erhöhen den Anlagendurchsatz und verhindern eine Querkontamination

• Seitenfahrwagensystem, Labyrinth Ausführung vom Prozess- zum Fahrwagenbereich
• Metallische Teile teflonbeschichtet, Greifer gefertigt aus ECTFE
• Integrierte voll automatische Reinigungs- und Trocknerstation für den Greifer
• Oszillierende Warenbewegung im Bad
• Heißluft Trockner aus Kunststoff mit Deckel für Reinraumklasse 10
• Flüssigkeitsbewegung über Filtration

• Seitenfahrwagensystem, Labyrinth Ausführung vom Prozess- zum Fahrwagenbereich
• Metallische Teile teflonbeschichtet, Greifer gefertigt aus ECTFE
• Integrierte voll automatische Reinigungs- und Trocknerstation für den Greifer
• Oszillierende Warenbewegung im Bad
• Heißluft Trockner aus Kunststoff mit Deckel für Reinraumklasse 10
• Flüssigkeitsbewegung über Filtration

• Modularer Aufbau des Verrohrungsmodules den jeweiligen Prozessbädern zugeordnet
• Einfacher Zugang für Wartungsarbeiten
• Probenahme mit Spülfunktion und Sicherheitsabschottung
• Elektro- und pneumatische Installation folgt der modularen Idee

• Beladestation für zwei Warenträger mit Gewichtskontrolle und Erfassung
•  Automatische Kalkulation des Abtrags durch Gewichtkontrolle
• Entsprechend dem kalkuliertem Abtrag an der Ware erfolgt die Chemienachschärfung automatisch
• zusätzliche Chemieüberwachung auf Anfrage
• Kostenreduzierung durch optimierten Chemieeinsatz

• Automatischer Rücktransport der Warenträger von der Entlade- zur Beladestation
• Warenausgabe in den Reinraum
• Wareneingabe im Grauraum
• Warenträgerrücktransport über 2 Lift Stationen innerhalb der Anlage

Ultraschall Reinigungsbad

• Rezirkulation des Medienstroms über Überlauf und Filtrationseinrichtung
• vertikaler Warenbewegung zur effektiven Vorreinigung
• beheiztes Becken mit Absaugung
• Ultraschall mit "Sweep function"

Vollautomatische Naßbank für den Betrieb im Reinraum mit "foup" Be- und Entladeports. Der Transport der Wafer erfolgt im System "carrierless" zur Minimierung prozessbedingter Chemikalienverschleppung.

Vollautomatisches Reinigungssystem mit "carrierless" Transport und Ausgabe der gereinigten Wafer wahlweise im Reinraum oder Grauraum. Es erfolgt ein gleichzeitiger Transport zwischen den Stationen von 60 Stück 300mm-Wafer.

Beim Drahtsägen von Siliciumböcken zu Wafer sind diese zum Schutz vor Beschädigung noch mit Kit verbunden. Das Entkitten erfolgt mit oben gezeigter Anlage vollautomatisch.

System zum Ätzen von Glassubstraten mit Chromschwefelsäure.

Endreinigungssystem für Wafer mit "carrierless" Transport und hoher Prozessflexibilität durch Batch-Betrieb.