Know-how
Prozesstechnik Anlagen.
Das Reinigungs- und Ätzsystem für Siliziumwafer kombiniert neueste Prozesstechnologie mit bewährter Technik und hoher Flexibilität. Der modulare Aufbau ermöglicht eine kundenoptimierte Konfiguration. Integrierte Reinraum-Technologie sichert beste Reinigungs- und Ätzprozesse und spart Kosten, da nur an der Ausgabestation ein Reinraum benötigt wird.
- Beispielversion – Ultraschallreinigung
- Heißwassertrockner, Heißlufttrockner
- Ätzbecken
- Edelstahl oder Kunststoff
Neuste Technik
Reinigungs- u. Ätzsystem
Wie bei den Nassprozesssystemen bieten wir auch hier einen modularen Aufbau der Systeme an. Dieser dient nicht nur der besseren Einbringung, sondern auch der Erweiterung der Anlage bei Prozessumstellung bzw. Produktionserhöhung.
Der hohe Automatisierungsgrad unserer Systeme fordert nur einen geringen Personaleinsatz. Die Anlagen werden im Ausgabebereich nicht selten direkt an den Reinraum angeschlossen.
Ein hoher Durchsatz der Bauteile mit oszillierender Warenbewegung und bester Spültechnologie runden das Konzept ab. Serviceeinsätze sind dank der vielen Zugangsöffnungen und optimierter Geräteplatzierungen schnell abgeschlossen.
