Beispiele für Reinigungssysteme
Beim Drahtsägen von Siliziumblöcken zu Wafer sind diese zum Schutz vor Beschädigung noch mit Kit verbunden. Das Entkitten erfolgt mit oben gezeigter Anlage vollautomatisch.
System zum Ätzen von Glassubstraten mit Chromschwefelsäure
Vollautomatische Nassbank
Vollautomatische Nassbank für den Betrieb im Reinraum mit "foup" Be- und Entladeports. Der Transport der Wafer erfolgt im System "carrierless" zur Minimierung prozessbedingter Chemikalienverschleppung.
- Ätz- und Reinigungsprozess für Halbleiter- und Solarindustrie
- Hochflexible Prozessparameter
- Niedrige Betriebskosten
- Hoher Durchsatz (min. 42 m²/h Silizium Waferfläche) bei gleichzeitig optimierter Aufstellfläche
- Transport innerhalb des Systems ohne Horden zur Reduzierung von Chemieverschleppung zwischen den Becken
- Verschiedene Be- und Entladevariationen verfügbar. In diesen Bild ist eine gekapselte Transportkassette dargestellt
- Modularer Aufbau für höchste Flexibilität und Reduktion von Wartungskosten
- Absolute Prozess Wiederholbarkeit
- Reinraumklasse 10 - 100
